Учебная работа № 11956. «Контрольная Преступления, связанные с нарушением правил эксплуатации ЭВМ
Содержание:
Содержание
Введение ………………………………………………………………………….3
1. Характеристика и особенности преступлений, связанных с нарушением правил эксплуатации ЭВМ, системы ЭВМ или их сети…………………………..5
2. Особенности расследования и судебная практика ………………………..11
Заключение …………………………………………………………………….19
Список литературы ……………………………………………………….…..21
Нормативный правовой материал ……………………………………………22
Список литературы
1. Айков Д., Сейгер К., Фонсторх У. Компьютерные преступления. Руководство по борьбе с компьютерными преступлениями. М., 1999
2. Андреев Б.В., Пак П.Н., Хорст В.П. Расследование преступлений в сфере компьютерной информации. М., 2001. 152 с.
3. Батурин Ю.М. Проблемы компьютерного права. М.: Юрид. лит., 1991
4. Боер В.М. Информационно-правовая политика России. СПб., 1998
5. Волеводз А.Г. Российское законодательство об уголовной ответственности за преступления в сфере компьютерной информации // Российский судья 2002 № 9
6. Гармаев Ю.П. Методика расследования преступлений: правоприменительная практика и комментарии законодательства. Подготовлен для Системы КонсультантПлюс, 2003
7. Женило В.Р. Проблемы развития цифровых информационных технологий в органах внутренних дел//Компьютерные технологии в криминалистике и информационная безопасность. Труды академии МВД РФ. М., 1997
8. Комментарий к Уголовному кодексу Российской Федерации (постатейный) / под ред. А.А. Чекалина, В.Т. Томина, В.В. Сверчкова. М.: Юрайт-Издат, 2006
9. Криминалистика: Учебник / под ред. А.Ф. Волынского. М., Закон и право, 2000. С.594.
10. Криминалистика: Учебник / под ред. А.Ф. Волынского. М., Закон и право, 2000. 751 с.
11. Крылов В.В. Расследование преступлений в сфере компьютерной информации. Криминалистика / под ред. Н.П. Яблокова. М., 1999
12. Курушин В.Д., Минаев В.А. Компьютерные преступления и информационная безопасность. М.: Новый юрист, 1998
13. Махтаев М.Ш., Соловьев Л.Н. Расследование преступлений в сфере компьютерной информации: Лекция. — М.: в/ч 33965, 2001
14. Назмышев Р.А. Проблемы расследования неправомерного доступа к компьютерной информации: Учебное пособие. Астана: Данекер, 2002
15. Соловьев Л.Н. Проведение практических занятий: следственный осмотр средств компьютерной техники / Профессиональная подготовка в учебных заведениях МВД России: Проблемы, пути их решения. — М.: ЮИ МВД РФ, 2000
16. Толеубекова Б.Х. Компьютерная преступность: вчера, сегодня, завтра. Караганда, 1995
17. Уголовное право. Особенная часть/под ред. Н.И.Ветрова и Ю.И.Ляпунова. М.: Новый юрист, 1998
Нормативный правовой материал
18. Конституция РФ от 12 декабря 1993 года // Российская газета, N 237, 25.12.1993.
19. Уголовный кодекс РФ от 13 июня 1996 года № 63-ФЗ //Собрание законодательства РФ, 17.06.1996, N 25, ст. 2954
20. Федеральный закон от 4 июля 1996 года N 85-ФЗ «Об участии в международном информационном обмене» // Российская газета от 11 июля 1996
21. Постановление Верховного Совета РФ от 23 сентября 1992 года № 3524-1 «О порядке введения в действие Закона Российской Федерации «О правовой охране программ для электронных вычислительных машин и баз данных» // Ведомости Съезда Народных Депутатов Российской Федерации и Верховного Совета Российской Федерации. 1992. N 42. Ст. 2326.
Форма заказа готовой работы
Выдержка из похожей работы
Выбор значения М2 и М3
Выбор значения М2 и М3 осуществлялся методом подбора
Задано: Nmaxэффек=50000, i=1,2,3,4, МП-принцип, М1=10, М4=16
Расчет:
М1*М2*М3*М4=Nmaxэффек
М1*M4=10*16=160 элэ
M2*M3=Nmaxэффек/(M1*M4)=50000/160=312,5 элэ
M2*M3~630
Если М2=13, то M3=24
Примем:
М1=10, М2=13, M3=24, M4=16
Определение максимальной интеграции БИС
Логические элементы в кристаллах БИС используются со средней эффективностью равной 0,5,При этом эффективность использования структурных элементов по уровням компоновки равна:
для i=1:ЭЭ1=0,7
для i=2:ЭЭ2=0,8
для i=3:ЭЭ3=0,9
для i=4:
ЭЭ4=1
Nmaxmax=Nmaxэффект/Ээф=49920/0.504=99047 элэ
Максимальная интеграция рассчитывается по формулам:
.
Вычислим, сведя результаты в таблицу 1:
В конструкциях устройств в однокорпусном БИС для СБИС используется в соответствии с уровнем i=4 максимальная интеграция составит Nmaxmax=99047
Табл,1
Уровень компоновки iСхемная интеграцияMax интеграцияNiMiNsiMsii=110101414i=21301323216i=3312024619027i=449920169904716
Определение уровней полупроводниковой технологии (l) БИС
Оценочные размеры кристалла определяются по формуле:
l = l=1.13(мкм)
Выбор схемотехники
Строим БИС на основе схемотехники КМОП,Обоснование выбора схемотехники приведено при расчете энергетических характеристик.
Базовыми логическими элементами в КМОП-схемотехнике являются инвертор; логические схемы И-НЕ, тактируемый двунаправленный ключ,Приведем их принципиальные схемы:
Рис,1,Принципиальная схема 4-х входового элемента И-НЕ
Эта глава содержит расчет ряда параметров, являющихся для конструкции устройства базовыми (исходными), определяемыми только логической схемой и заложенными в ней методами и принципами компоновки элементов,К ним относятся параметры, характеризующие: функциональный объем (общую интеграцию устройства), число входных и выходных внешних контактов и соотношение между ними, быстродействие, определяемое на этом этапе числом каскадов ЛЭ в цепи обработки, нагрузочные способности линий связи (число связей в цепи), принципы компоновки элементов в логических схемах,Эти параметры определяются с учетом принципов структуризации и моделирования логической схемы устройства.
Для расчета основных компоновочных параметров использовались базовые компоновочные соотношения, отражающие системную взаимосвязь между ними и принципы компоновки элементов на каждом компоновочном уровне, приведенные в Учебном Пособии «Основы компоновки и расчета параметров конструкций» Результаты расчетов в таблице 2.
Табличные представления результатов компоновки и расчета значений компоновочных параметров логической схемы устройства по заданным исходным данным, полученные с использованием формул.
Табл,2
Уровень компоновки iИнтеграцияОсновные компоновочные параметрыNiMimihiHiKiririllinipiqii = 1101010222,3471.6250.238120.60.210010028441,8802.1200.359250.70.31000100078771,4882.5120.4314120.70.3100001000021711111,1782.8220.4778260.70.3250002500032713131,0732.9270.49011350.70.3500005000044714141.0003.0000.50014440.80.3i = 21301322261,8301.5440.214120.60.21000100784111,4881.8770.307240.70.250005001607171,2632.1110.357360.70.31000010002178201,1782.1970.374380.70.325000250032710251,0732.3010.3944110.70.350000500044712291,0002.3750.4075130.70.3i = 33120241293231,3251.5050.201120.60.26500501794291,2301.6000.231120.60.2130001002445361,1471.6830.255130.60.2260002003336441,0691.7610.276230.60.2390003004007501,0271.8040.287240.60.2500503854478531,0001.8300.293240.60.2i = 4312011391331,3251.0000.000110.50936032111391,1851.1400.065110.50.11872062872521,1051.2210.099110.50.12808093452611,0601.2650.117110.60.137440123922691,0301.2960.129110.60.149920164463770.9991.3250.140110.60.1
3,Расчет энергетических параметров БИС
В расчете учтена зависимость уровня технологии кристалла БИС и числа элементов в общем объеме устройства,К основным энергетическим характеристикам, подлежащих расчету, относятся: напряжение питания, токовая нагрузка и потребляемая мощность,В расчете учтено, что такие параметры как напряжение питания и потребляемая мощность (в расчете на 1 ЛЭ) с ростом степени интеграции элементов на кристалле (а значит с повышением технологического уровня) могут уменьшаться и при определенном уровне технологии будут характеризоваться новыми значениями, отличными от значений при одном ЛЭ, принятым за основу,При этом полученные новые значения напряжения питания должны вписываться в стандартизованный ряд значений (напр., 5В; 4,5В; 3,5В; 3В и т.д.).
Рассчитаем мощность, потребляемую одним ЛЭ, задержку и напряжение:
Pлэ=0,14*l7/6=0,14*1,13 7/6=0,16мВт
Uлэ=3,6*Öl»3.8(В)
Iлэ=0,6*l1.75=0,6*1,13.75=0,74нс
Принимаем UБЛЭ=4,5В, тогда
IБЛЭ=P/U=0,16/3,8=0,042мА
Зная, заданную максимальную эффективную интеграцию и энергетические параметры одного ЛЭ, определим параметры всей БИС:
PБИС=0,16*49920=7987мВт=0,8Вт
IБИС=0,042*49920=2096мА=0,21А
Анализируя параметры рассеивания мощности для КМОП, ТТЛ и ЭСЛ видно,
РТТЛ =1*l7/6 РЭСЛ =3*l7/6 PКМОП=0,14*l7/6
tТТЛ =0,7*l1.75 tЭСЛ =0.3*l1.75 tКМОП=0,6*l1.75
что РТТЛ и РЭСЛ в 5-20 раз выше, чем PКМОП, при этом возникает не решаемая проблема отвода тепла,Следовательно, в качестве схемотехники БИС выбираем КМОП технологию.
4″